0371-5536 5392 0371-5519 9322
-
高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀 高真空雙源熱蒸發(fā)鍍膜儀適用于蒸發(fā)涂覆大多數(shù)金屬和某些有機材料薄膜
-
高真空雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛...
-
電子束蒸發(fā)鍍膜儀 電子束蒸發(fā)鍍膜儀以電子束蒸發(fā)方式鍍膜設備，主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡...
-
PLD脈沖激光濺射沉積設備 該PLD脈沖激光濺射沉積設備系列設備主要用于生長光學晶體、鐵電體、鐵磁體、超導體和有機化合物薄膜材料，尤其適用于生長高熔...
-
5英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐不銹... 近距離有機物蒸發(fā)鍍膜爐是一種雙加熱區(qū)快速熱處理爐,它是研究新一代太陽能電池薄膜的主要工具，如CdTe、硫化物和鈣鈦礦太陽...
-
帶手套箱三源蒸發(fā)鍍膜儀 鍍膜設備以金屬/有機源蒸發(fā)為主體，適用于實驗室制備金屬單質(zhì)、氧化物、介電質(zhì)、半導體膜
-
5英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐用于... 5英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐適用于薄膜太陽能電池,如CdTe.硫化物和鈣鈦礦結(jié)構(gòu)太陽能電池,這是一款理想的實驗工具
-
高真空水冷熱蒸發(fā)鍍膜儀 高真空蒸發(fā)鍍膜儀，鎢絲籃（或鎢舟）用作蒸發(fā)源，并且樣品臺和蒸發(fā)源之間的距離是可調(diào)的。 該儀器可以穩(wěn)定地蒸發(fā)金屬和某些有機...